Hidroxid de tetrametilamoniu

Versiunea actuală a paginii nu a fost încă examinată de colaboratori experimentați și poate diferi semnificativ de versiunea revizuită pe 6 iunie 2019; verificările necesită 3 modificări .
hidroxid de tetrametilamoniu
General

Nume sistematic		 hidroxid de tetrametil amoniu
Abrevieri TMAH, TMAOH
Chim. formulă ( CH3 ) 4NOH _
Clasificare
Reg. numar CAS 75-59-2
PubChem 60966
Reg. numărul EINECS 200-882-9
ZÂMBETE   C[N+](C)(C)C.[OH-]
InChI   InChI=1S/C4H12N.H2O/c1-5(2,3)4;/h1-4H3;1H2/q+1;/p-1WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M
ChemSpider 54928
Siguranță
NFPA 704 NFPA 704 diamant în patru culori 0 3 0
Datele se bazează pe condiții standard (25 °C, 100 kPa), dacă nu este menționat altfel.
 Fișiere media la Wikimedia Commons

Hidroxidul de tetrametilamoniu (TMAH, TMAOH - din engleză t  etra m ethyl amonium hidroxide ) este un compus cuaternar de amoniu cu formula moleculară (CH 3 ) 4 NOH, o bază organică puternică . Este folosit ca un agent de gravare anizotrop de siliciu . De asemenea, soluțiile slabe sunt folosite pentru a dezvolta fotorezist în procesul de fotolitografie . Deoarece este un catalizator de schimbare de fază , este foarte eficient în îndepărtarea fotorezistului. De asemenea, este folosit ca surfactant în sinteza ferofluidelor pentru a preveni lipirea particulelor.

Toxicitate

O soluție TMAH este o bază puternică . Ionii de tetrametilamoniu pot deteriora nervii și mușchii, ducând la dificultăți de respirație și posibil moartea la scurt timp după contactul chiar și cu o cantitate mică de substanță. TMAH pur este practic inodor, contaminat cu trimetilamina (care este folosita la producerea sarurilor de amoniu cuaternar) are miros de peste mort.

Gravant anizotrop

TMAH aparține familiei de soluții de hidroxid de amoniu cuaternar și este utilizat pe scară largă pentru gravarea siliciului anizotrop . Temperatura tipică de decapare 70°-90°C, concentrație tipică 5%-25% TMAH în greutate în soluție apoasă. Rata de gravare a siliciului crește odată cu creșterea temperaturii și scade odată cu creșterea concentrației de TMAH. Rugozitatea de gravare a suprafeței de siliciu crește odată cu creșterea concentrației de TMAH; la o concentrație de 20%, se obține o suprafață netedă de gravare.

Materialele obișnuite ale măștii de gravare pe termen lung TMAH includ dioxid de siliciu (depus chimic în vapori la presiune redusă) și nitrură de siliciu . Nitrura de siliciu are o rată de gravare neglijabilă în TMAH; rata de gravare în TMAH pentru silice depinde de calitatea filmului, dar este în general de ordinul a 0,1 nm/minut.